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Optical Proximity Correction
Optical Proximity Correction (deutsch etwa: optische Nahbereichskorrektur), meistens durch OPC abgekürzt, ist ein datentechnisches Verfahren in der Halbleitertechnologie zur Verbesserung der Abbildungsleistung fotolithografischer Prozesse. Dabei wird versucht, durch Abänderung der zu projizierenden Geometrie die Unzulänglichkeiten der optischen Abbildung und chemischen bzw.
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